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半導(dǎo)體電子行業(yè) EDI超純水設(shè)備

產(chǎn)品簡介

半導(dǎo)體電子行業(yè) EDI超純水設(shè)備出水水質(zhì)具有最佳的穩(wěn)定度。能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水,電阻率可達15-18MΩ。

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-08-07
訪問次數(shù):1500
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半導(dǎo)體電子行業(yè) EDI超純水設(shè)備概述

EDI(Electrodeionization)又稱連續(xù)電除鹽技術(shù),是當(dāng)今先進的高純水生產(chǎn)技術(shù),它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體,通過陽、陰離子膜對陽、陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移,從而達到水的深度凈化除鹽,并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續(xù)再生,因此EDI制水過程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水,它具有技術(shù)先進、結(jié)構(gòu)緊湊、操作簡便的優(yōu)點,可廣泛應(yīng)用于電力、電子、醫(yī)藥、化工、食品和實驗室領(lǐng)域,是水處理技術(shù)的綠色革命。
 

一、半導(dǎo)體超純水設(shè)備工作原理

1、供給原水進入EDI系統(tǒng),主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部,而另一部分沿膜板外側(cè)流動,以洗去透出膜外的離子。

2、樹脂截留水中的溶存離子。

3、被截留的離子在電極作用下,陰離子向正極方向運動,陽離子向負(fù)極方向運動。

4、陽離子透過陽離子膜,排出樹脂/膜之外。

5、陰離子透過陰離子膜,排出樹脂/膜之外。

6、濃縮了的離子從廢水流路中排出。

7、無離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。

半導(dǎo)體電子行業(yè) EDI超純水設(shè)備

二、EDI純水儀,EDI超純水機產(chǎn)品特性

1、出水水質(zhì)具有最佳的穩(wěn)定度;

2、能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水,電阻率可達15-18MΩ.cm;

3、模塊化生產(chǎn),并可實現(xiàn)全自動控制;

4、不需酸堿再生,無污水排放;

5、不會因再生而停機;

6、無需再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲運;

7、設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小;

8、運行成本和維修成本低;

半導(dǎo)體電子行業(yè) EDI超純水設(shè)備


三、半導(dǎo)體超純水設(shè)備特點及應(yīng)用范圍

1、設(shè)備緊湊、占地面積?。▋H為傳統(tǒng)工藝的15%);

2、無需再生、可連續(xù)運行;

3、水的利用率高;

4、無酸堿排放、無化學(xué)污染;

5、產(chǎn)水品質(zhì)高度穩(wěn)定;

6、運行成本低廉(僅為傳統(tǒng)工藝的65%);


四、設(shè)備參數(shù)表

規(guī)格

處理量
(T/H)

備注

規(guī)格

處理量
(T/H)

備注

EDI-0.5T

0.5

主機含膜組件、支架
主機管路高壓泵及電控器 。

EDI-1T

1.0

主機含膜組件、支架、
主機管路、高壓泵及電控器

EDI-2T

2.0

EDI-3T

3.0

EDI-4T

4.0

EDI-5T

5.0

EDI-6T

6.0

EDI-7T

7.0

EDI-8T

8.0

EDI-10T

10.0


雙級+EDI工藝流程                                 

半導(dǎo)體電子行業(yè) EDI超純水設(shè)備

電子行業(yè)超純水工藝流程

電子行業(yè)超純水工藝流程

 

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